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由于客觀條件，任何光學系統(tǒng)都不能生成理論上理想的像，各種像差的存在影響了成像質(zhì)量。所謂像差，是指顯微鏡透鏡或反射鏡所呈的像與原物面貌并非完全相同的現(xiàn)象。像差又可以分為幾類，例如球面像差是由于一點光源發(fā)散的光線被分聚在不同的點上的緣故。色彩像差的原因是透鏡的折光指數(shù)隨光波的長短而變化，從而引起像的邊緣呈現(xiàn)色彩?？梢岳斫鉃閷嶋H像與根據(jù)單透鏡理論確定的理想像的偏離，這些偏離是折射定律造成的。像差是由透鏡對色光的不同彎曲能力所致，并造成帶有色暈的像。  所以組成一個光學系統(tǒng)中的透鏡質(zhì)量對顯微鏡的成像影響是非常大的。

    透射掃描電鏡在光學鍍膜的原理是高能離子或原子轟擊某金屬靶，并把自己的動量轉(zhuǎn)給靶中的原子，后者得到足夠的能 量時就有可能脫離與相鄰原子的結(jié)合，由靶中逸出。這些被釋放出的原子(或原子團)沉積在樣品表面形成了一連續(xù)的導電覆蓋層。通常濺射過程是伴隨輝光放電而產(chǎn)生。輝光放電是一種氣體放電。如果一個容器中有兩個電極，極間充有悄性氣體，將這兩電極間加直流電壓(1---3k V)，在某種外來因素(如陰極表面受短波輻波等)作用下，使陰極產(chǎn)生電子并飛向陽極。在電子向陽極運動時，不斷和氣體分子碰撞而產(chǎn)生正離子和自 由電子，正離子在電場作用下向陰極運動時也不斷和氣體分子碰撞又產(chǎn)生電子和正離子。當極間的離子與電子足夠多時，電流突然增 大，電壓值下降，這相當于電極間電阻變小，空氣成了導體。當大量正離子轟擊陰極表面時，將足夠的能 量交給金屬陰極的某些原子(或原子團)，后者便脫離表面向外“飛出”。這些“飛出”的原子或原子團在與殘余氣體分子反復撞擊后，便由四面八方附著在樣品表面.如果它們還有足夠多的能 量，光學顯微鏡則到達待搜蓋樣品的表面時有可能射入1-2個原子層的深 度。

    金屬原子在樣品表面的沉積速度與許多因素有關(guān).首先，轟擊金屬陰極靶的氣體離子能 量增加時濺射出的金屬原子能 量也增 大。其次，容器中的氣體壓強增 大或放電電流密度增 高時，氣體正離子數(shù)量和密度也增 大。第三，樣品與金屬靶的距離越近，沉積速度越大，但過度接近會使樣品受熱，一方面損傷標本，同時氣體中的雜質(zhì)也影響沉積速度。